高速激光图形化直写设备 iGrapher200/iGrapher820
时间: 2022-06-29
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应用场景
>> 精密掩膜板
>> 柔性电子
>> 传感器(MEMS/NEMS)
>> 生物芯片Bio-chip
>> 科学研究 (微纳制造)
>> 精密印刷掩膜板
>> 集成成像
>> 微光学元件
>> 红外偏振器件
>> 纳米图形(可选)
>> OLED光效提取图形
>> 镂空掩膜板
>> 教育(微电子、光学、先进制造、机电)
>> 平板显示
>> 光学防伪
技术特点
>> 支持8”-65”幅面
>> 高速图形化,高速SLM
>> 高精度浮运动平台
>> 频闪平铺光斑曝光( Flash Tile Beam Lithography(FTBL)。采用DPSSL UV 激光器
>> 3D 导航自动聚焦
>> 支持GDS II,DXF,BMP等文件格式