高速激光图形化直写设备 iGrapher200/iGrapher820

时间: 2022-06-29 作者: 浏览次数: 1391

应用场景

  >> 精密掩膜板
  >> 柔性电子
  >> 传感器(MEMS/NEMS)
  >> 生物芯片Bio-chip
  >> 科学研究 (微纳制造)
  >> 精密印刷掩膜板
  >> 集成成像
  >> 微光学元件
  >> 红外偏振器件
  >> 纳米图形(可选)
  >> OLED光效提取图形
  >> 镂空掩膜板
  >> 教育(微电子、光学、先进制造、机电)
  >> 平板显示 
  >> 光学防伪

 

技术特点

  >> 支持8”-65”幅面

  >> 高速图形化,高速SLM

  >> 高精度浮运动平台

  >> 频闪平铺光斑曝光( Flash Tile Beam Lithography(FTBL)。采用DPSSL UV 激光器

  >> 3D 导航自动聚焦

  >> 支持GDS II,DXF,BMP等文件格式